镍铬旋转靶采用真空熔炼工艺或者热、冷喷涂工艺制得，尺寸根据客户要求定制。
镍铬平面靶采用真空熔炼、轧制、机加工等工艺流程制得，尺寸根据客户要求定制。
纯度：99.9%；常用比例：80-20Cr wt%、60-40Cr wt%。
应用领域：大面积玻璃镀膜、汽车装饰镀膜、电阻镀膜、磁记录和集成电路等领域。在镀膜行业中，Ni-Cr 系二元合金靶材和薄膜被广泛应用于耐磨、减磨、耐热和抗蚀等表面强化薄膜，以及低辐射( Low-E) 玻璃、微电子、磁记录、半导体和薄膜电阻等高端技术产业，热处理工艺显著影响合金的物相结构和显微组织。
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