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钽靶材


钽旋转靶采用真空熔炼工艺制得，尺寸及纯度根据客户要求定制。
钽平面靶采用真空熔炼工艺制得，尺寸及纯度根据客户要求定制。

纯度：99.95-99.99%
应用领域：半导体镀膜行业和光学镀膜工业。

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