铌靶材

铌旋转靶采用真空熔炼或冷喷涂工艺制得，可生产大长度4000mm，厚度根据客户要求定制。
铌平面靶采用真空熔炼工艺制得，可生产大长度2500mm，大宽度400mm，尺寸及纯度根据客户要求定制。

纯度：99.95-99.99%
应用领域：高导电等镀膜行业、薄膜太阳能工业、低辐射玻璃工业、平板显示工业、光学镀膜工业、工具及装饰镀膜工业。

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