铝靶材

铝旋转靶采用真空熔炼或冷喷涂工艺制得，尺寸及纯度根据客户要求定制。
铝平面靶采用真空熔炼工艺制得，尺寸及纯度可根据客户要求加工。

纯度：99.9-99.9995%
应用领域：镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等。

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