镍靶材

镍旋转靶采用冷压成型工艺和真空热压烧结工艺或喷涂工艺制得，尺寸及纯度根据客户要求定制。
镍平面靶采用冷压成型工艺和真空热压烧结工艺制得，尺寸及纯度根据客户要求定制。

纯度：99.9-99.9995%
应用领域：半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、工件表面涂层等。

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